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去离子水设备应用范围
1、电子材料加工、单晶硅半导体、半导体材料、液晶显示器、计算机硬盘、印刷电路板、集成电路；
2、LCD、EL、PDP、TFT、玻壳和显像管；
3、超材料和超化学剂导纤维和光盘；
4、汽车、家电表面电泳漆清洗用水及其它高科技精密产品；
去离子水设备技术参数
机器型号：N 1-100T-DI
制 水 量：1-100 T/H
主要管径：DN 32
工作压力：≤1.0MPa
产水电阻率：18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm
进水水源：城市自来水
进水水温：5－35℃
机器电源：380V/50HZ
进水TDS ：≤300ppm
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去离子水设备使用说明书
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