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多晶硅超水器_超水机_超水系统。硅片是现代半导体行业不可或缺的基础材料，而在硅片的生产过程中会有许多的污染物质干扰产品的质量，所以半导体器件的生产硅片需要进行严格的清洗，通过清洗去除掉表面的污染杂质，包括有机物和无机物等，否则微量元素的污染会导致半导体器件失效。
多晶硅是由许多硅原子及许多小的晶粒组合而成的硅晶体。由于各个晶粒的排列方向彼此不同，其中有大量的缺陷。多晶硅一般呈深银灰色，不透明，具有金属光泽，性脆，常温下不活泼。
多晶硅是用金属硅(工业硅)经化学反应、提,再还原得到的度材料(也叫还原硅)。目前世界上多晶硅生产的方法主要有改良西门子法(SiHCl3)、新硅烷法(SiH4)、SiH2Cl2热分解法、SiCl4法等多晶硅生产工艺。
对于消毒系统和清洗系统而言有四种类型：低pH值型、高pH值型、高温消毒型以及低浓度氧化消毒清洗型。单独的消毒清洗程序只针对淡水、浓水以及给水管线而言，消毒清洗的循环过程可以独立完成，独立的循环程序也可同时进行，从而减少总的使用时间。由于极水循环的低清洗流速，大多数情况下清洗过程必须同时与浓水循环清洗和淡水循环清洗同时进行。清洗水箱及水泵是必备的(CIP系统)。总共需要五条清洗流水线：两个(淡水和浓水)以及三个出口(淡水出口，给水出口和浓水排放)。
工艺流程：
原水箱→原水提升泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级高压泵→一级反渗透→级间水箱→二级高压泵→中间水箱→EDI提升泵→微孔过滤器→EDI系统→EDI水箱→抛光混床→用水点
设备特点：
1.
