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单晶硅反渗透水机_去离子水设备。单硅晶体超水设备主要作用是用于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的是以原子状态、离子状态、薄膜形式、颗粒形式存在与硅片的表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属铬、铜、铁、金等，严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等，引起严重漏电;颗粒污染源则包括有机胶体纤维、微生物、细菌、尘埃、硅渣等物质，这类物质都会在生产过程中造成不同程度的危害，所以现在的半导体器件生产、太阳能电池硅片、多晶硅、单晶硅的生产过程中都需要使用超水进行冲洗，整体过程受到的危害降到小。
渗源水企业生产的单硅晶体超水设备采用的是国内先进的科技，并搭配使用国际零部件，加上公司独到的管理经验理念，生产出满足于单硅晶体行业应用的量超水设备。
工艺流程：
原水箱→原水提升泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级高压泵→一级反渗透→级间水箱→二级高压泵→中间水箱→EDI提升泵→微孔过滤器→EDI系统→EDI水箱→抛光混床→用水点（≥18.2MΩ.CM）
设备性能：
1.
