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全方位方管抛光机粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有较大的抛光速率，全方位方管抛光机粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)全方位方管抛光机，其目的是去除粗方管抛光机，供应方管抛光机，方管抛光机，较好的方管抛光机方管抛光机的表层损伤，使抛光损伤减到小。方管抛光机抛光时，试样磨面与抛光血盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快，全方位方管抛光机使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，较要超过600r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。方管抛光机操作的关键是要设法得到抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响终观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。解决这个矛盾的好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到小全方位方管抛光机。
