适用范围:电子元件、集成电路、半导体材料、液晶显示器等生产用超水。
工艺流程:原水→原水箱→原水泵→机械过滤器→活性炭过滤器→阻垢/软化装置→保安过滤器→高压泵→反渗透→水箱→输送泵→混床/EDI→紫外除TOC→超化→紫外杀菌→终端过滤→用水点→循环回水箱
产水水质:电子级超水中国标准(GB/T11446.1-1997)
工艺说明:
1、机械过滤器
主要用于去除水中铁锈、泥沙、藻类、悬浮物等杂质,降低水的浊度,使出水浊度小于0.5NTU,CODMN小于1.5mg/L,含铁量小于0.05mg/L,SDI≤5。可通过控制阀随时进行反洗、正洗,以冲洗掉其表面的污物,防止其堵塞,恢复其过滤能力。
2、活性碳过滤器
活性炭具有极强的吸附过滤性能,对水中的余氯、异色、异味、有机物等具有很强的吸附作用。由于反渗透膜对余氯、有机物十分敏感,所以必须配置活性炭吸附余氯、有机物,使出水余氯≤0.1mg/L,SDI≤4,满足反渗透膜的给水要求。可通过随时控制阀进行反洗,以冲洗掉其表面的污物,防止其堵塞,恢复其处理能力。
3、阻垢装置(软化器)
几mg/L的阻垢剂就能防止几百mg/L的碳酸钙沉淀析出。其作用机理是阻垢剂在水中生成的长链的阴离子容易吸附在微小的碳酸钙晶粒上,同时这种阴离子易于和CO32