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CVD真空气氛管式炉应用领域：
CVD真空气氛管式炉广泛适用于高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等，也可适用于金属材料的扩散焊接及真空或保护气氛下热处理
CVD真空气氛管式炉的技术指标：
| 设备型号 | CVD(D)-06/60/3 | CVD(Z)-06/30/1 | CVD(G)-07/50/2 | CVD(G)-09/50/1 |
| 限高温度 | 1050℃ | 1350℃ | 1650℃ | 1650℃ |
| 使用温度 | RT-1000℃ | 850~1300℃ | 1000~1600℃ | 1000~1600℃ |
| 控制精度 | ±1.5℃ | ±1.5℃ | ±1.5℃ | ±1.5℃ |
| 温区个数 | 3 | 1 | 2 | 1 |
| 加热区长度 | 600mm | 300mm | 500mm | 500mm |
| 炉管尺寸 | 60x1400mm | 60x1000mm | 70x1450mm | 90x1450mm |
| 炉管材料 | 石英管 | 刚玉管 | 刚玉管 | 刚玉管 |
| 发热元件 | 电阻丝 | 电阻丝/硅碳棒 | 硅钼棒、电阻丝 | 硅钼棒 |
| 装机功率 | 4.5kw | 3kw/8kw | 10kw | 12kw |
