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曝光装置是一种成像装置，即在静电复印过程中，将原稿图像通过光源及光今不统 所形成的光像，终在光导层表面形成0电潜像. 曝光装置性能的好坏和曝光光源的特性，对于复印质量有直接影响.因此，应满足 下列要求: ·光源和镜头的光谱响应，应与光导体相匹配， ·光源有足够的光强，能在较短的时间内使敏化的光导体迅速消电， 二应选用电功率小和发光效率高的光源以减少其功率消耗， ·光路系统调节性能要好，通光效率应高，即光的损耗少厂 ·光路系统与光导体的同步误差不得大于。. 5 %; ·在设计允许的条件下，曝光装置的结构应使原稿得到较大的照度，并对原稿 ，整个照射面积上的照度均匀， ·曝光装置应有良好的散热措施，特别是用热光源时，其稿台坡19表面的温度，应 在连续复印时，不超过700C, 显影的主要目的是使静电潜像得以显示.而显影装置是籽电复印过程中严重影响I 印质量的重要因素.显影装置结构的优劣，性能的好坏，维护、使用得当等1 J .}i_ j.C 影响复印品的质。因此，确保显影装R的性能良好，参数正确，是获得复印品的 于有效. 静电复印过程中，对显影装置的基本要求有如下几个方而: (1)对光导体能连续供给一定数量的显影剂; (2)将显影剂均匀撒布在光导体上; (3 )显影装置的摩擦带电特 性，应与所用的色粉和载体相适 应，即色粉和载体的摩擦带电特性 弥，则显影装置的摩擦带电性能可 弱:反之应强; “)色粉的摩擦带电量， 应与所用光电导材料相匹配， (5)色粉的消耗和补充达 到平衡.
