设备构成及特点 本等离子体表面处理系统主要包括三个部分：真空腔及真空系统，等离子体发生器，控制系统。 1、 真空腔及真空系统 真空腔固定于机柜框架内，机柜的框架尺寸1722X1060X1840，左右两侧为可拆门，背面是对开的两扇门，因此内部的真空腔及真空系统的维修是极方便的。真空腔尺寸600X600X600，可以同时处理九层较大尺寸为550X550的工件。真空腔及真空阀门固定于框架内。外置一台粗抽泵与一台罗茨真空泵，一个与真空泵连接的电磁充气阀门，一台变频器控制真空泵的转速，进行闭环控制，保持真空腔的动态平衡，真空腔体内真空度在正常工作范围内。四个给真空腔充入微量气体的比例流量阀。用此阀可调节气体的进气量，以满足等离子表面处理工艺对气体流量和气体比例的要求。为了便于控制，在可调节比例流量阀后串有四个电磁真空挡板阀门。一个给真空腔破真空用的电磁充气阀门。真空计是在腔体内压强低于2.7X103才显示的数显真空计，可设三个控制真空度，本机90－100Pa为充入微量气体的真空度，30Pa为放电下限，100Pa为放电上限。 2、 等离子体发生器 等离子体发生器在30Pa--100Pa间给电极板施加电压，产生低温等离子体，见图4等离子体电源框图。利用高频转换技术形成500V、40KHZ的高频电压加到电极板上，当真空腔内达到一定真空度时，产生等离子体放电现象，放电后电路会自动调节电压到适合的值，电路正常稳定放电。 3控制系统 通过PLC可编程控制器来控制真空泵的开、关，电磁阀门的开、关，等离子发生器电源的开、关，充入微量气体流量，放电真空度，放电功率，放电时间，充入气体的预热时间，处理工艺的配方管理，处理阶段及每一阶段处理时间等。分自动和手动两种方式，见图5控制方式图。其中设置参数包括阶段选择设置，每一个阶段的运行时间设置，每一个阶段的每一种气体流量的设置，充入微量气体的真空度设置及放电真空度的设置。 图5 控制方式图 二、 技术参数 输入电压 380V三相50Hz 输出电压 0--500V 输出电压频率 40KHz±100Hz 输出功率 有效功率5Kw,峰值功率12Kw 输出过载电流 20A 放电真空度 30-100Pa 充入微量气体真空度 90－100Pa 极间距离 33mm 可加载气体 H2、N2、Ar4、O2等等，可同时接通4种气体