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主要用途
高真空镀膜设备可采用电阻加热式蒸发源、电子束加热式蒸发源，感应加热式蒸发源。可以蒸发金属，金属氧化物和非金属氧化物，适用于电子工业、光学工业的导电膜、光学膜、滤光膜、装饰膜等，如电子器件、塑料制品、制镜等。
主要组成
设备由真空镀膜室、蒸发源、卡具、真空机组、蒸发电源、控制系统与辅助装置等组成。
主要特点
★配有石英晶体或光学膜厚控制仪，可以实现膜厚镀膜自动控制，实现高精度的镀膜效果。
★配RF离子轰击装置达到净化基体表面的作用，使膜与基体表面附着力更好，提高膜层的强度。
★可同时蒸镀两种以上不同的蒸镀材料，可制成复合膜。
★操作简便、适应生产、科研的理想设备。
★具有过流、过压保护及断水、欠压保护及电气互锁的功能。
