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真空气氛多工管式炉，额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃，使用不同的加热元件，型号，安全，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
一、真空气氛多工管式炉产品描述
1.1温度分类600℃~1800℃；可抽真空，通气氛；
1.1本款管式炉以硅碳棒、硅钼棒或者电阻丝为加热元件，
1.2采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，
1.3炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
1.4采用国际先进技术，有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。
1.5具有安全、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。
