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铜电解抛光设备、铜电化学抛光设备的具体描述：
电解抛光是利用金属表面微观凸点在特定电解液中和适当电流密度下﹐发生阳极溶解以对电解工件进行抛光的一种电解加工技术﹐又称电抛光﹐英文简称ECP。首先将需要电解的工件作为阳极接入直流电源的正极，用铅﹑铜等耐侵蚀的导电材料作为阴极﹐接入直流电源的负极。两者相距一定间隔浸到电解液中﹐在一定温度﹑电压和电流密度下﹐通电一定时间(一般为几分钟)﹐直到工件表面上的微小突出部门溶解掉﹐变成平滑光亮的表面即可。
电解抛光的主要特点是﹕
1、抛光的表面不会产生变质层﹐无附加应力﹐并可去除或减小原有的应力层
2、对那些难于用机械抛光的硬质材料﹑软质材料以及薄壁﹑外形复杂﹑细小的零件和制品都能使用电解抛光加工﹔
3、抛光时间短﹐而且可以将多件工件同时抛光﹐进步出产效率﹔
4、电解抛光所能达到的光亮度与原始表面粗拙度有关﹐一般可进步两级。但因为电解液的通用性差﹐使用寿命短和强侵蚀性等缺点﹐电解抛光的应用范围受到限制。
电解抛光主要工艺为：除油--水洗--除锈--水洗--电解抛光--水洗--中和--水洗--钝化--包装。
通过了解了电解抛光的原理和特点，我们可以知道电解中应留意些细节题目，这样才能减少消耗，进步加工效率。
一般组合包括：
整流机 抛光槽 阳极棒 阴极棒 阴极铅板 两级铜线 石英加热器 抛光液 电解挂具（添加时间控制仪 温控仪）。
