目前,通过式超声波清洗是国内外许多大规模集成电路制造厂家生产过程中不可缺少的标准设备,这类设备多被使用于半导体生产线上,在对300mm硅片的清洗中,可除去硅片表面上小到0.15μm的微小颗粒,而且可加快漂洗过程并有效地阻止粒子在硅片表面上重新附着。相对于其他的清洗方式,的硅片通过式超声波清洗机更占优势,理由有以下几点:
一:有效提高生产效率
1、采用超声波清洗 喷淋清洗率的清洗组合,清洗效率更高,效果更好;
2、配有烘干槽,清洗和烘干两不误,一次性到位,节约能源;
3、整机运行由机械手操作、PLC控制,减轻员工劳动强度,减少人力资源,提高竞争优势;
二:设备性能优越
1、具备产能等智能化计数功能,无需人工计数。
2、操作简单,性能稳定,可以24小时工作,适合大批量连续生产;
三:配件使用更长久
1、采用高Q值换能器中,超声波功率强劲。
2、采用压缩机制冷、回收率高达93%,有效降低使用成本,提品的综合市场竞争力;
越来越多的厂家都选用超声波来进行产品的清洗,因为用过的人都知道超声波的清洗时间比其他方式的清洗减少近一半的时间,且可以节约1/4的人力做其他的事,可以从根本上为企业节约成本,这也是近几来节能硅片通过式超声波清洗机迅猛发展的原因。