产品分类 更多>>
深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售的靶材应用于微电子领域。在所有应用产业中，半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出来．而互连线的宽度却在减小。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、度、低偏析和细晶粒，这就要求所制造的靶材具有更好的微观结构。靶材的结晶粒子直径和均匀性已被认为是影响薄膜沉积率的关键因素。另外，薄膜的度与靶材的度关系极大，过去99.995%（4N5）度的铜靶，或许能够满足半导体厂商0.35pm工艺的需求，但是却无法满足如今0.25um的工艺要求，而未米的0.18um}艺甚至0.13m工艺，所需要的靶材度将要求达到5甚至6N以上。铜与铝相比较，铜具有更高的抗电迁移能力及更低的电阻率，能够满足！导体工艺在0.25um以下的亚微米布线的需要但却带米了其他的问题：铜与有机介质材料的附着强度低．并且容易发生反应，导致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。为了解决以上这些问题，需要在铜与介质层之间设置阻挡层。阻挡层材料一般采用高熔点、高电阻率的金属及其化合物，因此要求阻挡层厚度小于50nm，与铜及介质材料的附着性能良好。铜互连和铝互连的阻挡层材料是不同的．需要研制新的靶材材料。铜互连的阻挡层用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等．但是Ta、W都是难熔金属．制作相对困难，如今正在研究钼、铬等的台金作为替代材料。深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售的AZO靶材，密度、度以及内部组织均匀性等靶材质量的重要参数严格管控。大面积镀膜玻璃，薄膜的主要制备方法是溅射法,制备出的薄膜致密度高,附着性好。AZO靶材质量是影响溅射法制备薄膜的关键因素之一，优良的靶材是制备高性能薄膜的首要条件，透明导电薄膜的质量主要体现在其电阻率和可见光区的透射率。透明导电薄膜的电学和光学性能对质量优良的靶材的要求是不言而喻的。
